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真空镀膜设备有哪些基本技术要求?

作者: admin 时间:2020-02-13 来源:巩华特油 标签:
摘要:真空镀膜是真空技术得以应用的一个重要领域,真空镀膜设备在使用过程中有相关操作规范以及技术性要求,在使用过程中如果不加以注意会使得生产出的产品出现问题或者设备遭受到...

真空镀膜是真空技术得以应用的一个重要领域,真空镀膜设备在使用过程中有相关操作规范以及技术性要求,在使用过程中如果不加以注意会使得生产出的产品出现问题或者设备遭受到损坏。巩华真空泵油厂家根据多年为真空镀膜设备服务的经验,为您总结真空镀膜设备的基本技术要求。
 
1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱,避免由于油蒸汽的返流造成对镀膜成品的污染。巩华真空泵油厂家生产的3号扩散泵油是扩散泵专用油,巩华3号扩散泵油经多次分馏,饱和蒸汽压低,抽真空更快,提高生产效率,在蒸气流的作用下,可以获得较高的真空,是扩散泵专用油,同时3号扩散泵油分子量大,油蒸气遇冷迅速冷却回流,降低了返油率,减少镀膜的污染。



4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定。
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4.4.6
10、其他注意事项
(1)环境温度:10-30oC;
(2)相对湿度:不大于75%
(3)冷却水进水温度:不高于25oC
(4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水。
(5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;频率波动范围:49-51Hz。
(6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,消耗量等,均应在产品使用说明书中写明。
(7)设备周围环境整洁,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
 
以上就是真空镀膜设备的基本技术要求,希望对真空镀膜企业有所帮助。

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