真空镀膜系统主要构成解析

真空镀膜是真空技术运用的重要领域，有着广泛的应用。真空镀膜设备有哪些部分组成呢？在镀膜成品的生产过程中有着什么样的作用呢？巩华真空泵油厂家本文为您简单介绍真空镀膜系统的主要构成。
 
  1.真空室
　　涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。巩华真空泵油厂家生产的4号真空封脂是真空专用脂，4号真空封脂良好的密封性和粘附性，保证真空系统安全；良好的物理性稳定性，使封脂不随温度高低而产生物理变化；较好的氧化安定性和化学稳定性；饱和蒸气压低，使封脂在使用中保持较低的放气量。具有优良的抗腐蚀性、抗水性和抗溶剂性，耐大多数化学品的侵蚀，是高真空封脂，适用于可拆卸法兰、活塞、磨口接头或其他转动部位的润滑和密封。
 
 
  2.真空获得部分
在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。不同的真空泵所需要的润滑液也不一样，一般情况下巩华100号真空泵油适用于机械泵，高速真空泵油适用于罗茨泵，分子泵油适用于分子泵系统，巩华真空泵油厂家提醒您，在不清楚设备用什么油时，可以咨询我们，巩华有专业技术指导人员，根据您的设备型号以及工作环境，为您提供建议，帮助您了解设备是用100号真空泵油、高速真空泵油还是分子泵油，解决您的用油问题。


 
  3.真空测量部分
　　真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计，电离计，皮拉尼计等等。
 
 
  4.电源供给部分
　　靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(RF)，常见的电源厂商有AE,ADL,霍廷格等
 
  5.工艺气体输入系统
　　工艺气体，如氩气(Ar)、氪气(Kr)、氮气(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是，管路简捷、明快，维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况，这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是，减少气瓶占用量，统一规划、统一布局。缺点是，由于接头增多，使漏气机会增加。而且，各涂层机之间会互相干扰，一台涂层机的管路漏气，有可能会影响到其他涂层机的产品质量。此外，更换气瓶时，必须保证所有机台都处于非用气状态。
 
  6.机械传动部分
   涂层要求周边必须厚度均匀一致，因此，在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。即在要求大工件台转动(I)的同时，小的工件承载台也转动( II),并且工件本身还能同时自转(III)。在机械设计上，一般是在大工件转盘底部中央为一大的主动齿轮，周围是一些小的星行轮与之啮合，如果要实现产品自转的话，一般用拨叉拨动工件自转。
 
 
  7.加热及测温部分
　涂层设备一般有不同位置的加热器，用热电偶测控温度。但是，由于热电偶装夹的位置与工件位置不同，温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度，有很多方法，可以在工件上装高温试纸或热偶计。
 
 
  8.离子蒸发及溅射源
　　多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。
　　磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
 
  9.水冷系统
一般由冷水塔，冰水机，水泵等组成。
 
 
10. 工控系统
 
以上就是巩华真空泵油厂家为您整理的真空镀膜系统的主要构成，不同设备的构成有差异，在设备生产过程中起到的作用也不尽相同，在设备生产使用过程中存在疑问，应当咨询相关设备厂家或者技术人员，不要随意处理，造成设备的故障。